芯片和光刻机是指什么(光刻机是制造手机电脑等电子芯片)

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　　随着近年来科学技术的飞速发展，我国已经拥有了许多世界上先进的高科技武器装备。早在20世纪60年代，我们就已经研制成功了。现在随着科技的不断进步，我们在这方面的经验已经相当成熟。

　　虽然我们有很多高端技术，有一样东西直到今天还很难造出来，那就是光刻机。说到这，肯定有人会说。我们甚至可以做到，但我们不能得到一个小的掩模对准器吗？，我们来分析一下两者的区别。

　　原理是利用中子与铀原子核碰撞产生核裂变，然后产生爆炸。虽然这个原理看似简单，但实际上构建起来非常困难。一是要有高浓度的核燃料，二是要有一些科技人才来完成这样一个复杂的大型工程系统。当时我们在搞建设的时候，可以得到我们需要的相关材料，而且当时也有像钱学森、邓稼先这样的杰出人才，他们克服了各种困难的技术和条件才得到这些东西。

　　掩模对准器是不同的。我们来看看光刻机的原理。光刻机是一种用于制造芯片的机器。制造芯片时，会先在晶圆表面覆盖一层光刻胶，然后通过掩膜板用光照射硅片表面。这时候光敏胶就会被光溶解，然后自己形成电路。这个原理听起来并不复杂，为什么做不出来呢？要知道，这种电路板的精度是纳米级的，大概是一根头发丝的5000倍，而这种光刻机使用的镜头要求不能有2纳米的误差。这种技术水平现在放在世界上，也是顶尖水平。

　　除了极其严格的精度等级，还需要顶级光源，其光学系统极其复杂。目前世界上最先进的是极紫外光。由于技术难度大，国内至今没有突破。现在只有美国掌握了这种先进技术。就算能研发出光刻机，生产的精度还是相当落后的。别人能生产的光刻机都在5纳米的级别，而我国目前只突破了14纳米的光刻机，制造出来的芯片性能很难满足现在芯片的要求。

　　在拥有顶级光源的前提下，还需要极致的机械精度。光刻机中有两个同步移动的工作台，一个用来承载胶片，另一个用来承载底片。两个表需要严格同步，误差小于2纳米。这两个桌子必须有和导弹发射相同的加速度。而且对外界环境要求严格，湿度、温度、压力的变化都会影响工作过程的准确性。要把温度控制在千分之五，需要更精确的温度传感器。目前世界上最好的光刻机是SMEE，它包含13个子系统，3万多个机械部件，200多个传感器。任何一个部件都不能出问题，否则就会受到影响。

　　也有科学家说过，现在的芯片代表了人类历史上最先进的科技成果，可见制作一个光刻机有多难。

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